芯片设计重大进展--铪合金代替二氧化硅作为绝缘层

"纽约时报的报道,Intel和IBM周五不约而同地宣布他们在微处理器设计上取得了重大进展,摩尔定律将继续有效。他们都将使用铪合金来代替已经使用了40多年的二氧化硅来作绝缘层。这是不是说硅作为半导体工业的代名词即将结束了,或许将来硅谷得改名叫“铪谷”?"
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